产品中心 您的位置 : 主页 > 产品中心 > 化学气相沉积设备EASYTUBE系列科研CVD设备

 EASYTUBE系列科研CVD设备


First Nano公司是CVD公司的全资子公司,致力于设计、加工各类型科研设备。
目前EasyTube™ 系列设备在众多领域均有科研应用,诸如纳米材料、半导体、应用物理、生物医学、航天等。其设备主要特点:
1. 全自动程序控制;2. 完备的安全系统;3. 工艺结果重复性高;4. 模块设计,配备灵活;
典型设备型号如下:

EasyTube 101
特点:

  • 衬底尺寸边长或直径1英尺
  • 独立三温区电阻丝加热1100度
  • 4条气路
  • 自动进出样

可选配置:

  • 液源
  • 固源
  • 真空系统

典型应用:

  • CNT
  • Graphene
  • Si, SiGe Nanowire
  • Oxide Nanowire

 

 

EasyTube 2000
特点:

  • 衬底尺寸边长或直径2英尺
  • 独立三温区电阻丝加热1100度
  • 4-8条气路
  • 自动进出样

可选配置:

  • 液源
  • 固源
  • 真空系统
  • 快速降温功能

典型应用:

  • CNT
  • Graphene
  • Si, SiGe Nanowire
  • Oxide Nanowire
  • Annealing
  • Thin Film

 

EasyTube 3000
特点:

  • 衬底尺寸边长或直径4-12英尺
  • 独立三温区电阻丝加热1100度
  • 4-12条气路
  • 自动进出样

可选配置:

  • Load lock 预处理腔
  • Hot-Loader 快速降温装置
  • Remote 等离子增强
  • 液源
  • 固源
  • 超高真空
  • 红外加热及射频加热

典型应用:

  • CNT/Graphene
  • Si, SiGe, Oxide, Nitride Nanowire
  • Oxidation, Annealing
  • Thin Film Deposition: Si, SiGe, SiO2, Si3N4

 

EasyTube 4000
特点:

  • 电阻丝加热或红外加热1000 C
  • 石英管反应腔
  • 4条气路
  • 自动进出样

典型应用:

  • CNT
  • Si3N4/SiO2
  • a-Si

 

EasyTube 5000
特点:

  • 科研型MOCVD
  • 用于2” or 3” 衬底
  • 每次进样至多3片
  • Showhead 气体传送
  • 衬底旋转

典型应用:

  • II-VI (ZnO etc)
  • III-V (GaN etc)
  • TMD

 

EasyTube 6000多管炉
特点:

  • 1-4套独立系统
  • 衬底尺寸4”/6”
  • 每次10 -100片
  • 机械悬臂自动进出样

典型应用:

  • Dry/Wet Oxidation
  • Diffusion
  • Annealing/Drive in
  • Poly Silicon
  • LPCVD Si3N4
  • LPCVD SiO2