定制CVD设备
CVD设备公司具有丰富的设备设计和生产经验。多年来为全世界的客户提供了数千套生产设备和客户定制设备,涉及纳米材料、半导体、医疗器械、太阳能及航天等各领域。
典型客户定制设备如下:
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沉积、渗透、刻蚀系统及难熔金属涂层制备
特点:
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超高真空UHVCVD和低压LPCVD双反应腔系统,用于硅、锗硅和纯锗的外延生长;
LPCVD
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液相外延设备 (LPE)
典型应用:碲镉汞外延生长
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多反应腔系统
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快速热处理 (RTP)
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卷轴式CVD设备
典型应用:超导材料 |
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EasyTube SiQC 硅源质量检测系统
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硫化、硒化炉系统
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垂直晶体生长系统
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