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CVD公司和化学气相沉积设备

美国CVD Equipment公司(纳斯达克上市公司,代码:CVV)成立于1982年,总部位于纽约长岛。主要产品包括化学气相沉积(CVD),热处理设备,真空设备,特气柜,尾气处理设备等等。公司具有强大的开发,设计和生产能力,三十几年来为全球众多客户提供了数千套研发和生产设备,广泛用于医学功能材料,航天航空,纳米技术,半导体,太阳能等领域。
其子公司First Nano是世界领先的纳米材料设备制造商。
公司提供完整Turn-Key方案:气柜、主机、尾气处理设备。

 

Process Demo (工艺展示)

 

 

 

化学气相渗透多孔钽

铜箔上生长单层石墨烯

镍基上生长多层石墨烯

 

 

  三维镍基上生长石墨烯

Mm级单层石墨烯

TMD过渡金属硫化物

 

 

 

垂直碳纳米管阵列

水平碳纳米管

批量氮化硅、氧化硅、多晶硅

 

 

 

垂直硅纳米线

氧化锌TCO(high haze)

三维结构上沉积氧化锌

 

CVD EQUIPMENT CORPORATION中国地区独家代理:美国汇杰国际公司